光刻機作為芯片制造最重要的設備，目前在全球市場上都是稀缺資源。在光刻機設備市場上，尤其是EUV光刻機設備，幾乎被ASML壟斷。全球光刻機出貨量99%集中在ASML、尼康和佳能，ASML份額最高。由于美國的技術封鎖，我國收購ASML技術幾乎毫無可能，那么同樣有高端EUV光刻機技術的日本尼康和佳能是否可以合作共贏？

　　除華為外，國內晶圓大廠半導體進口設備也遭斷供，另據路透社報道，美國正考慮對半導體制造設備及相關軟件、激光器、傳感器等技術的出口進行新的限制，美對我半導體產業的打壓已有蔓延之勢。而芯片制造始終是我國半導體產業的薄弱環節，唯有突破光刻機技術，才能掌握芯片自主。

　　一、自主與合作

　　光刻機被譽為“半導體工業皇冠上的明珠”，要造出造芯片的機器，并不是一件容易的事，它不僅僅是擁有約10萬個零部件般復雜，也不僅僅是集合了數學、光學、流體力學、自動化、圖像識別等10余個領域般綜合，還要都是頂級的，一個技術突破不算突破，全部突破才算整體前進一步，這是最難的。

　　說阿斯麥光刻機代表西方制造工業的最高水平并不為過，一臺最先進的EUV光刻機，鏡頭來自德國卡爾蔡司，大功率光源來自美國賽摩，精密加工技術來自瑞典，浸沒雙工作臺來自荷蘭，特殊復合材料來自日本等等，在阿斯麥供應商中有很多隱形冠軍，它們可能并不太知名，但無法忽視的是，這些幾乎都是同行業中的佼佼者。

　　如果說在某一個領域做好或許不是難事，比如中微公司2017年就成功研發出了世界上第一臺5納米刻蝕機，但這并不代表國內芯片制造工藝達到5納米水平，到目前為止最先進的國產光刻機僅為90納米，最薄弱的環節才代表真實的水平，國產光刻機要出頭，勢必要做到與阿斯麥更接近的水平，但也意味著要在細分領域全部做好。

　　誰也不是三頭六臂，神通廣大，造好光刻機，除了發展自主技術，開放合作是很有必要的。

　　二、日經遞橄欖枝

　　最近日經新聞有一篇關于中國半導體產業的報道，文章指出，隨著美國的封鎖和打壓，長遠來看，美國此舉可能會助推重工半導體產業的自立與發展，目前中國半導體仍可迂回以對。

　　文章主要提到幾點：

　　一是中國有1000多家新興的半導體相關公司，如果華為和中芯從這些公司購買進口的半導體芯片、設計軟件以及生產設備，實際上就可以進行半導體采購并擴充制造設備；Synopsis共同執行長Aart de Geus表示：“在中國有很多半導體相關企業（除華為外）都在大量購買，這種情況無法避免國內的轉售?！?/p>

　　二是聯發科對美國的銷售額很少，該公司雖已停止對華為供貨，但也有可能會繼續接受華為的訂單并準備接受美國制裁，聯發科可以在不投訴最終用戶詳細信息的情況下訂單生產，臺積電同樣可以。

　　對上世紀70/80年代崛起的日本半導體產業來說，通過不同的方法將技術從美國帶回日本，從模仿再到超越，成就90年代的半導體霸主是可能的，但時代背景不同，通過規避限制出口并不是長遠之計，SWIFT跨國結算系統掌握在美國手上，所有國際賬戶信息，都在美國的掌控之中，會導致更多的企業被限制。

　　文章提到的另一方案或許更有前景，EUV以外的光刻機，日本的尼康和佳能也可以制造，業界有關人士表示：“中國企業擬向兩家日本公司提供資金，要求共同開發除EUV以外的新型光刻機。”

　　目前只有荷蘭的阿斯麥能夠制造EUV光刻機，而大部分基礎技術的知識產權都由美國掌握，如果走別人的路，知識產權的約束會很多，當芯片制程工藝接近摩爾定律極限，3D堆疊技術正在成為延續摩爾定律的主角，研發新的光刻機或許是彎道超車的機會，就像2000年前后阿斯麥憑借浸入式光刻技術超越尼康一樣，每一次彎道超車都離不開新技術、新材料的顛覆。

　　當年美國建立EUV LLC聯盟搞高端光刻機，幾乎半導體業界所有的巨頭都被邀請來了，唯獨尼康排除在外，最后單打獨斗的尼康，自然干不過人家聯盟，不知尼康是否因此耿耿于懷？如今國產光刻機需要合作，尼康正好有技術積累，尼康是否有心被阿斯麥碾壓二十年后再扳回一城？結果值得期待。

　　現在尼康最先進的光刻機是45-22納米，雖然跟阿斯麥有幾代的差距，但在單打獨斗的日子里，技術幾乎都是自己的，受美國方面的制約更少。

　　三、結語

　　2012年日本存儲芯片企業爾必達被美光收購，去年11月，原社長坂本幸雄就任紫光集團高級副總裁，紫光旗下核心企業長江存儲主打存儲芯片；

　　曾就職瑞晶總經理的陳正坤，后瑞晶被美光收購，陳正坤加入聯電，后來到大陸協助福建晉華建存儲芯片廠，當被問及為什么加入聯電和中國大陸DRAM技術合作研發計劃，陳感性地說，當年瑞晶被兼并對他沖擊很大，且自主開發DRAM技術一直是他心中的夢想，希望這個夢想在這里播種開花。

　　中國半導體產業崛起，除了開放合作，還要尋找合適的領頭羊。