據日經亞洲（Nikkei Asia）9月3日報導，美國處理器大廠英特爾已決定與日本官方研究機構在日本設立先進半導體研發中心，以提振日本半導體設備制造與材料產業。

據介紹，這座新的研發中心將在未來3到5年落成，擬配備極紫外光（EUV）光刻設備。設備制造商與材料商只要繳納一定的費用，就能使用設備進行測試與試作。這將是日本第一座擁有供廠商共用EUV光刻機的研發中心，也是日本研究機構首度計劃導入EUV光刻機。

該研發中心將由隸屬于日本經濟產業省（經產省）的產業技術綜合研究所（AIST）負責營運，而英特爾將提供使用EUV技術制造芯片的專業知識。這座研發中心的總投資額將達數百億日元。

EUV在制造5nm以下先進芯片上扮演重要角色，不過一臺EUV設備動輒售價約1.5億美元，并非是許多材料商與設備商可單獨負擔的價格。

而資金不夠雄厚的廠商目前只能使用海外研究機構的EUV設備來研發產品，例如比利時微電子研究中心（IMEC）。此外，日本政府與8家民間企業合資的晶圓代工廠Rapidus計劃今年12月引進EUV設備，以便制造尖端制程芯片，不過日本研究機構目前尚無這類設備。

隨著美中科技競爭日趨激烈，美國早已禁止EUV的對華出口，并加強了對于高端DUV相關技術和產品的出口管制，其中包含設備與材料，不過管制措施也導致廠商從海外研究機構回收數據到日本之際更加耗時。未來日本國內就能使用EUV光刻機，就能減少管制帶來的阻礙。

荷蘭光刻機大廠ASML是唯一的EUV光刻機供應商，不過生產芯片需要經過超過600道制程，而光刻機只是其中一環，其他相關設備與材料的發展也至關重要。