9月10日消息，繼英特爾搶先于2024年4月宣布完成業界首臺高數值孔徑極紫外（High NA EUV）光刻機組裝后，臺積電竹科園區將于 9 月底前引進其首臺高數值孔徑極紫外光刻機，較外界所猜測的年底時間點提前一整個季度。

Digitimes 報道稱，臺積電首部 High NA EUV 設備的購入價格遠低于原定的 3.5 億歐元（注：當前約 27.55 億元人民幣）報價。

據稱，臺積電之所以可以享受折扣，主要是因為 ASML 給出了很大讓步（畢竟臺積電可是超級 VIP），全力協助臺積電進機、調校與技術支援等，加速上線時間點，也就是此臺主要目的為臺積電試用。ASML 對此則表示，不評論單一客戶。

供應鏈表示，隨著未來 3nm 產能滿載與預計 2025 年 Q4 量產的 2nm 制程客戶訂單陸續落袋，臺積電已重啟 EUV 設備拉貨動能，估計此波新單規模約達 70 臺。

臺積電目前已經掌控絕對市場占有率優勢與話語權，也是至今 EUV 設備下單量最多的客戶，再加上是 High NA EUV 最大客戶，臺積電很顯然掌握著與 ASML 的議價優勢。