5月6日消息，有投資者向晶瑞電材提問，光刻膠作為核心半導體材料，請問公司的技術(shù)優(yōu)勢在哪里？目前的銷售情況怎么樣？

晶瑞電材回應(yīng)稱，光刻膠位居芯片制造最難材料之首，屬典型卡脖子材料，我司子公司蘇州瑞紅是國內(nèi)少有的既有規(guī)模又有利潤的成熟光刻膠企業(yè)，銷售規(guī)模和盈利能力處于國內(nèi)領(lǐng)先位置，近年銷售額和利潤均呈現(xiàn)高速增長。

瑞紅公司光刻膠品類齊全，經(jīng)過三十年積累，擁有負型光刻膠系列、寬譜正膠系列、g線系列、i線光刻膠系列、KrF光刻膠系列等數(shù)十個型號產(chǎn)品，ArF光刻膠的研發(fā)工作有序開展中。瑞紅部分產(chǎn)品占據(jù)國內(nèi)主要市場份額，部分產(chǎn)品進入了頭部芯片公司。目前公司半導體光刻膠產(chǎn)品產(chǎn)銷正常，其中部分光刻膠產(chǎn)品供不應(yīng)求，公司已啟動該類光刻膠產(chǎn)品的擴產(chǎn)項目建設(shè)。

公開資料顯示，晶瑞電材是國內(nèi)技術(shù)領(lǐng)先的微電子化學品龍頭，主要產(chǎn)品包括超凈高純試劑、光刻膠、功能性材料、鋰電池材料等，廣泛應(yīng)用于半導體芯片、面板顯示、LED等泛半導體領(lǐng)域及鋰電池、太陽能光伏等新能源行業(yè)。

晶瑞電材的光刻膠產(chǎn)品由其的子公司蘇州瑞紅生產(chǎn)，規(guī)模生產(chǎn)光刻膠30年，產(chǎn)品序列齊全，產(chǎn)業(yè)化規(guī)模、盈利能力均處于行業(yè)領(lǐng)先水平，是國內(nèi)最早規(guī)模量產(chǎn)光刻膠的少數(shù)幾家企業(yè)之一。

根據(jù)晶瑞電材的財務(wù)總監(jiān)、董秘陳萬鵬透露，晶瑞去年1．79億元的光刻膠收入中，有80％～85％來自半導體客戶。

2021年度，受益于國產(chǎn)半導體材料滲透率加速提升、新能源汽車行業(yè)高速發(fā)展，公司主營產(chǎn)品半導體級光刻膠及配套材料、高純化學品、鋰電池材料等產(chǎn)銷兩旺，同比環(huán)比均產(chǎn)生了較大增長，業(yè)績增速十分顯著。

2021年度，晶瑞電材實現(xiàn)營業(yè)總收入183，208．76萬元，較上年同期增長79．21％；實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤20，099．66萬元，較上年同期增長161．20％。

其中，光刻膠及配套材料產(chǎn)品共計實現(xiàn)銷售27，412．34萬元，同比增長53．04％，達到歷史最高水平，綜合毛利率提升了4．3個百分點，盈利水平得以提升。

晶瑞電材的半導體光刻膠布局中，i線光刻膠已經(jīng)量產(chǎn)，擁有 i 線光刻膠 100 噸／ 年，并批量出貨給國內(nèi)晶圓制造頭部企業(yè)，是目前國內(nèi)少數(shù)幾家實現(xiàn)光刻膠量產(chǎn)的企業(yè)之一，其i 線光刻膠已向國內(nèi)頭部的知名大尺寸半導體廠商供貨，主要客戶包括中芯國際、華虹宏力、上海積塔、長江存儲、士蘭微、合肥長鑫、揚杰科技等半導體行業(yè)知名企業(yè)。

KrF（248nm深紫外）光刻膠產(chǎn)品分辨率達到了0．25～0．13μm的技術(shù)要求，已通過部分重要客戶測試，KrF光刻膠量產(chǎn)化生產(chǎn)線正在積極建設(shè)中，計劃2022年形成批量供貨。同 時為加快KrF光刻膠的量產(chǎn)，公司新購入了尼康KrF S207光刻機及配套設(shè)備。

國內(nèi)主要光刻膠企業(yè)

光刻膠又稱“光致抗蝕劑”，是光刻成像的承載介質(zhì)，其作用是利用光化學反應(yīng)的原理將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信息轉(zhuǎn)化為化學能量，進而完成掩模圖形的復制。

一定程度上來說，光刻出的電路圖案越精密，就代表著芯片性能越好。采用不同的光刻光線，對應(yīng)地需要搭配不同的光刻膠。目前，根據(jù)不同的光波長，光刻膠大致可以分為G線、I線、KrF、ArF、EUV這幾類。

一直以來，半導體光刻膠都屬于光刻膠高端產(chǎn)品，由于國內(nèi)光刻膠領(lǐng)域起步較晚，技術(shù)嚴重落后等原因，導致我國半導體芯片領(lǐng)域的光刻膠需求主要由外資企業(yè)來滿足，日美廠商占據(jù)了約87％的份額，國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品進口比例高達九成。

在如此惡劣的環(huán)境下，國內(nèi)依舊誕生了一批優(yōu)質(zhì)光刻膠企業(yè)。

彤程新材

彤程新材成立于2008年，電子化學品業(yè)務(wù)主要涵蓋半導體光刻膠及配套試劑、顯示面板光刻膠和電子級酚醛樹脂。

2020年，彤程新材通過外延并購實現(xiàn)光刻膠業(yè)務(wù)布局，其子公司北京科華和北旭電子分別為國內(nèi)半導體光刻膠和面板光刻膠領(lǐng)先企業(yè)。其中，北京科華是唯一被SEMI列入全球光刻膠八強的中國光刻膠公司，其研發(fā)進度國內(nèi)領(lǐng)先，KrF光刻膠實現(xiàn)量產(chǎn)。北旭電子是國內(nèi)首家TFT光刻膠制造商，國內(nèi)市場整體占有率近20％。

同時，彤程新材積極向光刻膠上游布局，發(fā)揮產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同優(yōu)勢。通過建立電子級酚醛樹脂生產(chǎn)線，著力研發(fā)G／I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠生產(chǎn)所需的樹脂。

此外，彤程新材加速光刻膠產(chǎn)能拓展?jié)M足國內(nèi)市場需求，先后規(guī)劃1．1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關(guān)配套試劑項目，并建設(shè)年產(chǎn)5000噸電子級酚醛樹脂生產(chǎn)線。

此外，彤程新材還建立了光刻膠研發(fā)實驗室和電子級樹脂研發(fā)平臺，不斷深入電子化學品布局。彤程新材客戶涵蓋國內(nèi)主流廠商，包括中芯國際、上海華力微電子、長江存儲、華潤上華、杭州士蘭、吉林華微電子、三安光電、華燦光電等。目前是全球領(lǐng)先的新材料綜合服務(wù)商。

南大光電

南大光電成立于2000年，是專業(yè)從事先進前驅(qū)體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三類半導體材料產(chǎn)品生產(chǎn)、研發(fā)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)。

自2017年起，南大光電先后承擔國家“02專項”高分辨率光刻膠與先進封裝光刻膠產(chǎn)品關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)項目和ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目。歷經(jīng)3年，南大光電已制備出國產(chǎn)自主可控的ArF光刻膠產(chǎn)品， 滿足產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)條件。

目前，南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)成功通過武漢新芯的使用認證，成為通過產(chǎn)品驗證的第一家國產(chǎn)ArF光刻膠企業(yè)，目前，南大光電建有ArF光刻膠產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)線，將形成年產(chǎn)25噸ArF（干式／浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)能力，產(chǎn)品性能可以滿足90 nm－14 nm集成電路制造的要求。

上海新陽

上海新陽成立于1997年，二十年來，上海新陽經(jīng)過持續(xù)不斷地研發(fā)創(chuàng)新，形成了擁有完整自主可控知識產(chǎn)權(quán)的電子電鍍和電子清洗兩大核心技術(shù)。

緊密圍繞兩大核心技術(shù)，上海新陽開發(fā)研制出140多種電子電鍍與電子清洗系列功能性化學材料，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路制造、3D－IC先進封裝、IC傳統(tǒng)封測等領(lǐng)域，滿足芯片銅制程90－28 nm工藝技術(shù)要求，相關(guān)產(chǎn)品已成為多家集成電路制造公司28nm技術(shù)節(jié)點的基準材料，成為中國半導體功能性化學材料和應(yīng)用技術(shù)與服務(wù)的知名品牌。

此外，上海新陽已立項研發(fā)集成電路制造用高分辨率193 nmArF光刻膠及配套材料與應(yīng)用技術(shù)，其KrF厚膜光刻膠2021年開始實現(xiàn)少量銷售，預計2022年可實現(xiàn)量產(chǎn)；ArF干法光刻膠尚在認證當中，在2022年可實現(xiàn)少量銷售，2023年開始量產(chǎn)，其合肥第二生產(chǎn)基地項目正在按計劃建設(shè)當中。

徐州博康

徐州博康成立于2010年，深耕光刻材料領(lǐng)域十余年，實現(xiàn)了從單體、光刻膠專用樹脂、光酸劑及終產(chǎn)品光刻膠的國產(chǎn)化自主可控的供應(yīng)鏈，目前已開發(fā)全球在用的KrF及ArF光刻膠單體種類的80％左右，是國內(nèi)半導體光刻膠領(lǐng)域少有的垂直一體化企業(yè)。

2021年徐州博康產(chǎn)能切換及光刻產(chǎn)品技術(shù)與工藝不斷突破，光刻膠單體收入同比增長19．48％，光刻膠收入同比增長177％。

目前徐州博康A(chǔ)rF光刻膠有6款，品種涵蓋65nm，55nm、40nm、28nm及以下的關(guān)鍵層工藝以及LOGIC，3DNAND，DRAM等應(yīng)用領(lǐng)域。其中，應(yīng)用于通孔工藝的ArF濕法光刻膠，已經(jīng)能夠應(yīng)用至40nm／28nm工藝節(jié)點，是我國第一款國產(chǎn)化的ArF濕法通孔光刻膠。目前，有4款A膠正在客戶端進行導入測試。KrF光刻膠有13種，目前有8款K膠正在客戶端進行導入測試。I線光刻膠有11種，產(chǎn)品種類涵蓋高能注入、抗刻蝕等關(guān)鍵層工藝以及PAD、lift－off等應(yīng)用領(lǐng)域。

結(jié)語

對于國內(nèi)企業(yè)來說，在光刻膠行業(yè)取得良好的發(fā)展，是突破美國對于國內(nèi)半導體行業(yè)的封鎖的絕佳機會。現(xiàn)在國內(nèi)的光刻膠企業(yè)雖然在中低端光刻膠領(lǐng)域有所進展，但在高端光刻膠領(lǐng)域明顯存在差距，后續(xù)能否在該領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破，還有待觀望。