| 基于Innovus工具的IR Drop自動化修復 | |
| 所屬分類：技術論文 | |
| 上傳者：aetmagazine | |
| 文檔大?。?span>1139 K | |
| 標簽： 芯片設計 Innovus工具 IR Drop修復 | |
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| 文檔介紹：在先進工藝節(jié)點下，芯片電源網(wǎng)絡的電阻增加和高密度的晶體管同時翻轉會在VDD和VSS上產(chǎn)生電壓降(IR Drop)，導致芯片產(chǎn)生時序問題和功能性障礙。采用基于Innovus工具的三種自動化IR Drop修復流程在PR (Placement and Route)階段優(yōu)化模塊的動態(tài)IR Drop。結果表明，Pegasus PG Fix Flow和IR-Aware Placement這兩種方法能分別修復設計的48%和33.8%的IR Drop違例，且不會惡化時序和DRC（Design Rule Check），而IR-Aware PG Strape Addition這種方法的優(yōu)化力度相對較小，且會使DRC有較大程度的惡化。 | |
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