8月13日消息，今日晚間國內的半導體設備廠商屹唐股份發布公告，公司已向北京知識產權法院提起訴訟，目前案件已受理，尚未開庭審理

訴訟的主要原因是應用材料公司（AMAT）非法獲取并使用了公司的等離子體源及晶圓表面處理相關的核心技術秘密，并在中國境內以申請專利的方式披露了該技術秘密，構成侵犯商業秘密。

公司要求法院判令被告停止獲取和使用其技術秘密，并賠償經濟損失及制止侵權的各項合理支出，合計9999萬元。

公司表示，本次訴訟系為保護創新者知識產權，維護自身合法權益，不會對公司經營產生重大不利影響，最終影響將取決于法院的判決結果。

屹唐股份公告稱，利用高濃度、穩定均勻的等離子體進行晶圓表面處理是公司的關鍵技術之一，相關技術被廣泛應用于公司的干法去膠、干法蝕刻、表面處理及改性等半導體加工設備中。

公司在該領域具備領先的原創性技術能力，并擁有相關技術秘密。

被告應用材料招聘了曾在原告屹唐股份全資子公司Mattson Technology, Inc.（以下簡稱“MTI公司”）工作的兩名涉案員工。

該兩名員工了解屹唐股份關于等離子體的產生和處理方法的核心技術，熟悉和掌握相關設備結構以及技術工藝。

在MTI公司任職期間，該兩名員工均簽署了保密協議，對包括涉案技術秘密在內的技術信息承擔嚴格的保密義務。

證據顯示，應用材料招聘該兩名員工入職后，向中國國家知識產權局提交了一份發明專利申請，其中主要發明人即為前述兩名員工，該專利申請披露了原告與MTI公司共同所有的涉案技術秘密。

屹唐股份在公告中表示，被告非法獲取和使用原告的技術秘密，并在中國境內以申請專利的方式披露了該技術秘密，將該專利申請權據為己有，違反了《中華人民共和國反不正當競爭法》的規定，構成侵犯商業秘密的行為，對原告的知識產權和經濟利益造成嚴重的損害。

經查，被告涉嫌實行將使用涉案技術秘密的產品向中國境內客戶進行推廣銷售的行為，進一步造成了對原告商業秘密權益的侵害。

據官網介紹，美國應用材料AMAT成立于1967年，主要專注于生產用于半導體芯片制造的設備，包括薄膜沉積、刻蝕、曝光顯影、化學機械拋光等工藝。

2024年公司營收超過250億美元，僅次于ASML的300億美元，是全球第二大半導體設備供應商。