今年5月，臺積電（TSMC）首席執行官魏哲家來到了ASML的總部，與對方的高層會面。臺積電似乎改變了之前對High-NA EUV光刻技術的一些看法，外界傳言將加快引入新技術和新設備的步伐。隨后ASML向媒體確認，今年年底前將向臺積電運送High-NA EUV光刻機。
據TrendForce報道，臺積電本月將接收首臺High-NA EUV光刻機，移送至其全球研發中心進行研究，以滿足A14等未來先進工藝的開發需求。傳聞魏哲家親自與ASML談判并達成了一項協議，通過購買新設備和出售舊型號相結合的方式，將整體價格降低了近20%。
最新報告指出，High-NA EUV光刻機的售價可能超過4億歐元，由于無法拆卸光學鏡頭組件，設備比會議室還要高，并且比上一代產品要更長。 臺積電從7nm制程節點開始引入EUV光刻技術，目前是全球最大的EUV光刻機擁有者，大概占有著其中65%左右的設備。
ASML表示，正在推進新的光刻技術，并在研發階段獲得了所有EUV客戶的支持，而且這些EUV客戶都已經下單購買High-NA EUV光刻機。ASML預計，High-NA EUV光刻技術將在2026年轉向大規模生產，具體時間表取決于芯片制造商的工藝成本和其他因素。
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