據媒體報道指出上海微電子將在明年向國內芯片制造企業交付28nm光刻機,這代表著國產光刻機最先進的技術水平,國產光刻機在大幅縮短與海外的技術差距。

由于華為的遭遇,國人對于芯片制造產業高度關注,要擺脫對國外技術的依賴就需要研發自己的芯片制造產業鏈,而光刻機無疑是其中的關鍵設備。

此前國內的芯片制造廠幾乎全數進口外國光刻機,但是從華為遭遇這次事件之后,國產芯片制造產業鏈迅速聚集力量,培育起國產芯片制造產業鏈,借此真正實現獨立自主。

由于國內對芯片制造產業鏈的重視不足,據悉在2019年之前國產光刻機的最先進工藝水平在90nm左右,由于國產光刻機的技術較為落后,國產芯片制造廠不愿采用,國產光刻機企業也就沒有資金進行研發,導致國產光刻機的技術水平與外國的差距越來越大。

從去年起,國內的光刻機產業鏈獲得了巨大的支持,光刻機的研發進入快速發展階段,北京、上海、武漢等地的光刻機企業和相關研發機構紛紛表示加大研發力度。

上海微電子似乎已成為其中的領先者,它將率先向芯片制造企業交付28nm的光刻機,在兩年時間內就研發出先進的技術并將之變成可以使用的設備,這顯示出它的技術研發能力與生產結合得相當好。

其實在上海微電子之前,也有其他研發機構表示它們已研發出更先進的光刻機技術,然而光有技術而不能將之變成實際的設備,對國內的芯片制造產業支持較為有限,而在技術到產品之間還需要考慮許多的因素和時間。

光刻機的生產除了生產廠商自己對核心技術的研發之外,也需要配套企業進行相關的技術研發,這是一整條產業鏈共同努力的成果,畢竟此前國內的光刻機產業鏈的技術相比海外落后太多,這也凸顯出光刻機設備生產廠家與研發機構的巨大差異。

上海微電子用兩年多時時間研發出28nm光刻機已屬于一個巨大的技術進步,對此我們應該敬佩上海微電子為國內芯片制造產業鏈作出的貢獻,同時也應該由此清醒看到國內光刻機技術與海外的差距,需要腳踏實地加快追趕速度,但又應該考慮到國內產業鏈的現實。

或許也是看到中國光刻機產業鏈的迅速進步,近期全球光刻機行業領導者ASML表示將大規模向中國芯片制造企業供應DUV光刻機,這似乎頗為巧合。

海外技術先進企業的如此做法其實在液晶面板產業也曾出現過,在21世紀初期,日韓企業一直都表示有意在中國投資建設先進的液晶面板生產線,然而遲遲不見行動,到了2009年京東方和華星光電宣布籌建與當時海外先進技術水平相當的8．5代線,夏普、三星等紛紛在中國建設先進的液晶面板生產線,這證明了只有我們解決有無問題,國外企業才會真正重視。