Cadence公司4月18日正式發(fā)布針對7nm工藝的全新Virtuoso 先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺。通過與采用7nm FinFET工藝的早期客戶展開緊密合作，Cadence成功完成了Virtuoso定制設(shè)計平臺的功能拓展，新平臺能幫助客戶管理由于先進(jìn)工藝所導(dǎo)致的更復(fù)雜的設(shè)計以及特殊的工藝效應(yīng)。新版Virtuoso先進(jìn)工藝平臺同樣支持所有主流FinFET先進(jìn)節(jié)點(diǎn)，性能已得到充分認(rèn)證；同時提高了7nm工藝的設(shè)計效率。

　　為了應(yīng)對7nm設(shè)計的眾多技術(shù)挑戰(zhàn)，Virtuoso先進(jìn)工藝平臺提供豐富的版圖設(shè)計功能，包括：支持多重曝光（MPT）的色彩感知的編輯功能、支持FinFET網(wǎng)格功能、及支持模塊生成器（ModGen）器件陣列編輯功能等多種高級編輯功能。同時，在電路設(shè)計流程中，客戶可以使用Spectre APS仿真器、Virtuoso ADE產(chǎn)品套件和Virtuoso 原理圖編輯器執(zhí)行對多工藝邊界的蒙特卡洛分析（Monte Carlo Analysis），從而加強(qiáng)電路設(shè)計的差異分析。

　　聯(lián)發(fā)科技（MediaTek）模擬設(shè)計與電路技術(shù)部總經(jīng)理Ching San Wu表示，“我們與Cadence長期開展密切合作，成功開發(fā)并部署了基于Virtuoso先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺的定制設(shè)計方法。采用Cadence針對7nm工藝專門開發(fā)的多項獨(dú)特功能，我們得以成功實現(xiàn)近期的流片。”