7月31日消息，據《日經新聞》報道，日本相機、打印機、光刻機大廠佳能（Canon）位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于9月正式投入量產，主攻成熟制程及后段封裝應用設備，為全球芯片封裝與成熟制程市場提供更多設備產能支持。
據介紹，這座新工廠是佳能在2023年開始動工建設的，并可能使用自家開發的Nanoimprint（納米壓印）技術，總投資額超過500億日元，涵蓋廠房與先進制造設備。新廠面積達6.75萬平方公尺，投產后將使光刻設備總產能提升50%。
目前，荷蘭ASML 幾乎壟斷了全球90%以上的光刻機市場，不僅面向先進制程的浸沒式DUV光機市場，ASML幾乎獨占，在極紫外光（EUV）光刻機領域更是只有ASML一家供應商。
但是，在成熟制程（I-line和KrF)及先進封裝光刻機領域，佳能仍有一席之地。特別是后段制程設備，約占其總銷售額的30%，主要供應臺積電等封裝客戶，用于中介層與多芯片模塊制作，與ASML 在市場定位上并不直接競爭，而是專攻ASML 不重視的市場。
隨著AI 芯片推動CoWoS 與多芯片封裝需求持續攀升，佳能在封裝光刻機領域的技術優勢有望持續受益。新廠投產將有助于佳能在全球光刻機市場中穩固既有優勢，并為AI 與先進封裝需求提供更靈活的產能應對。
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