針對9月6日荷蘭宣布將擴大光刻機的管制范圍一事，商務部近日在發布會上對此進行了回應。

商務部發言人指出，近來，中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制范圍，中方對此表示不滿。

近年來，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中方對此堅決反對。

商務部發言人表示，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。

此前報道：荷蘭政府宣布擴大對先進半導體制造設備的出口管制措施，即從 9 月 7 日起，更多類型的半導體制造設備將受到國家授權要求的限制。這一措施規定，從現在起，公司在出口此類先進制造設備時必須申請授權，政府將根據具體情況對申請進行評估，因此這并不是一項出口禁令，措施適用于從荷蘭出口到歐盟以外的目的地。對于這一措施，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥回應稱，根據更新的許可證要求，阿斯麥將需要向荷蘭政府而不是美國政府申請 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 浸沒式 DUV 光刻機的出口許可證。TWINSCAN NXT:2000i 及其后的浸沒式 DUV 系統已經有了荷蘭出口許可證要求。阿斯麥 EUV 系統的銷售也受許可證要求的限制。阿斯麥表示，由于這是一項技術性變更，預計不會對公司 2024 年的財務前景或長期方案產生任何影響。