5月8日消息，ASML最先進EUV光刻機今年訂單已經被Intel包攬，其單臺售價超過了25億元。
據悉，ASML截至明年上半年最先進EUV設備的訂單已經由英特爾承包，而今年計劃生產的五套設備也將全部運給這家美國芯片制造商。
按照消息人士的說法，由于上述EUV設備產能每年約為5到6臺，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。
這也導致，英特爾的競爭對手三星和 SK 海力士預計將在明年下半年才能獲得該設備。
High-NA EUV光刻機能夠在半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產品的1/1.7。
更細的線條意味著芯片可以容納更多的晶體管，從而實現(xiàn)更快的處理速度和更高的存儲容量，這對于人工智能工作負載至關重要。
這臺EUV已于去年年底運抵其位于俄勒岡州的D1X工廠，英特爾計劃在2025年年底開始使用該系統(tǒng)進行生產。
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