眾所周知，生產(chǎn)7nm及以下的芯片，必須用到EUV光刻機(jī)。而目前擁有EUV光刻機(jī)最多的廠商，就是臺(tái)積電了，擁有EUV光刻機(jī)近100臺(tái)。

為何臺(tái)積電需要這么多的EUV光刻機(jī)？原因在于7nm以下的芯片產(chǎn)能，臺(tái)積電一家就拿下了全球的80％＋，像高通、蘋果、AMD、intel、Nvidia、博通等巨頭，都是臺(tái)積電的客戶，所以需要大量的EUV光刻機(jī)。

同時(shí)臺(tái)積電拿下這么多的EUV光刻機(jī)，也想著在3nm時(shí)，擁有更大的產(chǎn)能，這樣能力壓制住三星，不至于被三星搶了市場(chǎng)和客戶去。

不過(guò)，最近臺(tái)積電也遇到了難題，那就是EUV光刻機(jī)耗電太大了，因?yàn)樘鞖獾脑颍_(tái)灣省缺水缺電，撐不起臺(tái)積電這么大的耗電量了。

再加上臺(tái)積電當(dāng)前3nm工藝的客戶少，沒必要開這么多EUV光刻機(jī)，所以按照媒體的說(shuō)法，臺(tái)積電預(yù)計(jì)在年底，要關(guān)掉一些EUV光刻機(jī)，以節(jié)省耗電量。

EUV光刻機(jī)有多耗電？按照媒體每臺(tái)預(yù)估耗電1MW（megawatt，百萬(wàn)瓦），約為前幾代設(shè)備的10 倍，一臺(tái)EUV光刻機(jī)，一年的耗電量就超過(guò)1000萬(wàn)千瓦時(shí)。

為何EUV光刻機(jī)這么耗電呢？原因在于EUV能源轉(zhuǎn)換效率只有0．02％ ，雖然EUV標(biāo)稱的功率只有250W，但是需要輸入0．125萬(wàn)千瓦的電力，損耗都在轉(zhuǎn)換上了。

而擁有這么多EUV光刻機(jī)后，2021年臺(tái)積電實(shí)際用電量已接近170億度，占全臺(tái)灣用電量的8％左右。

而臺(tái)灣省本來(lái)就資源有限，缺水、缺電，能源都要靠進(jìn)口，現(xiàn)在臺(tái)積電一家就占用這么多的電能，過(guò)去幾年臺(tái)灣省增長(zhǎng)的供電量，大部分被臺(tái)積電占去了，也是壓力山大。

所以考慮到具體的3nm客戶情況，以及當(dāng)前臺(tái)灣省的供電情況，才會(huì)出現(xiàn)臺(tái)積電可能要關(guān)掉部分EUV光刻機(jī)，以節(jié)約用量的事情。

這也是為什么這幾年臺(tái)灣不斷的全球擴(kuò)張，到美國(guó)、日本、中國(guó)大陸等地建廠的原因，因?yàn)榕_(tái)灣的電能真的要供應(yīng)不上了，臺(tái)積電必須將產(chǎn)能分散，以獲得足夠的供電量。

想一想還是挺尷尬的，買到了這么多的EUV光刻機(jī)，最后要關(guān)機(jī)，不如偷偷賣幾臺(tái)到中國(guó)大陸來(lái)？我們可不怕它耗電大的。

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