近日ASML高管表示摩爾定律依然生效，依靠現有的EUV光刻機等技術可以進一步將芯片制造工藝推進1納米，此言論是它在一季度營收下滑19％、凈利潤幾乎腰斬之后發出的，這可能是因為它憂慮芯片制造市場發生變化而給業界描繪的大餅。
如今的ASML依然是活得很滋潤的，全球芯片制造企業依然在搶購它的光刻機，不僅它的新光刻機廣受歡迎，甚至供不應求，二手光刻機同樣極受歡迎，尤其是中國芯片企業的搶購，導致日本的二手光刻機漲價三倍。
不過由于光刻機的價格實在太昂貴，導致不少企業頗有微詞，其中日本芯片企業最先發起挑戰，鎧俠聯合日本的芯片設備企業研發的NIL工藝已舍棄了光刻機，據日媒的消息指使用NIL工藝可以大幅降低成本，因此鎧俠對于NIL工藝頗為滿意，預期該項工藝可以延伸至5納米。
北方某國因為當下的境況難以買到光刻機，因此決定研發全新技術的光刻機，正研發X射線光刻機，X射線的波長比極紫外線的波長更短，如果這項技術獲得成功可以達到更高的精度、同時也可以大幅降低成本。
中國由于種種原因難以買到EUV光刻機，不過中國芯片制造可以DUV光刻機生產7nm工藝，然后再輔以芯片疊加技術取得相當于5nm工藝的性能，而中國已是全球最大的芯片設備市場，如果中國對光刻機的需求下滑，那么對ASML將是重大打擊。
ASML更擔憂的是光刻機三大客戶臺積電、Intel和三星對光刻機的需求可能下滑，臺積電已表示在3納米工藝之后，2納米乃至更先進的工藝開發將面臨困難，因此它們都將延遲更先進工藝的研發，如此它們對EUV光刻機的需求將下滑。
可能ASML正是因為擔憂光刻機的需求在未來出現下滑，因此發出了這番言論，以鼓勵投資者，同時為芯片制造企業打氣，畢竟它的業務非常單一，光刻機是唯一的產品，如果光刻機的需求下滑，那么它將大傷元氣。
其實ASML當下面臨的壓力已不僅是光刻機市場可能發生的變化，芯片市場也正從供給不足向供給過剩轉變，早前它就說全球芯片供給不足將延續，然而知名蘋果分析師郭明錤和Gartner都給出了不同預測，郭明錤表示目前手機芯片市場已出現過剩跡象，Gartner則認為下半年或明年將開始出現芯片過剩。
芯片出現過剩意味著當下正大舉推進的芯片產能擴張將會暫停，對光刻機的需求將立即出現下降，可能ASML也正是因為擔憂光刻機的需求下滑，因此不斷發出正面信息，既是鼓舞自己也是為了提升投資者信心。
無論如何，這兩年全球芯片市場已發生重大變化，這已對全球芯片產業鏈造成了巨大的沖擊，這種變化為ASML帶來了這兩年的好日子，但是同樣也是因為這種變化必將對ASML的光刻機造成深遠的影響，繼續維持這種好日子實在不太現實。
