4月14日，南大光電在接受機構調研時表示，公司研發的ArF光刻膠主要定位于90nm－28nm集成電路的制程應用，公司ArF光刻膠產品分別通過一家存儲芯片制造企業和一家邏輯芯片制造企業的驗證，目前多款產品正在多家客戶同時進行認證。
南大光電表示，目前公司有多款ArF光刻產品在國內大型芯片制造企業進行測試。光刻膠是客制化產品，技術含量高，驗證周期長，且體量不大。因為是替代進口，所以我們研發的產品需要適應客戶端的工藝參數，留給我們的調整空間很小，所以驗證難度大。目前驗證進展順利，預計今年年底會有幾款產品通過驗證。公司也將抓緊推進市場拓展工作，爭取盡快實現批量銷售。
據了解，早在2016年，南大光電參股了北京科華微電子材料有限公司，便開始了研發“193nm光刻膠項目”，并且該公司是唯一一家通過了EUV光刻膠“02專項”研發的企業。彼時，南大光電便宣稱，計劃用3年的時間實現ArF光刻膠產品的建設、投產和銷售，最終達到年產25噸193nm ArF光刻膠產品的生產規模。
此外，有投資者問到，公司三大主線產品MO源，特氣和ARF光刻膠，在國內的市場容量分別有多大？公司這三大產品在國內市場的占比分別是多少？公司未來能拓展的三大產品市場容量分別有多大空間？
南大光電表示，公司各類產品市場占有率如下：MO源：國內約40％；前驅體：國內約8％；氫類電子特氣：國內約60％；氟類電子特氣：三氟化氮國內市占率約為35％，國外市占率約為10％；六氟化硫主要在國內銷售，市占率約為20％。
同時，南大光電還在努力實施MO源2．0計劃，通過技術創新不斷優化產品和客戶結構，先進前驅體材料如28nm和14nm制程前驅體、硅前驅體等產品研發和產業化取得重要突破；氫類電子特氣在技術、品質、產能和銷售各方面已躍居世界前列；氟類電子特氣方面公司加快烏蘭察布“試驗田”建設，為建設“世界單項冠軍”產品奠定堅實的基礎。
