自2020年至今，全球芯片供應短缺問題一直沒有得到解決，甚至還有愈演愈烈的趨勢，這在一定程度上擾亂了制造業經濟的發展，因此近兩年各國紛紛加強了對國內芯片產業扶持，尤其是日本。

其實，在上世紀八九十年代，日本半導體也曾有過輝煌時刻，一度在全球半導體產業中撐起了半壁江山，但因為多年來日本政府對芯片產業投資不足，日本芯片制造在全球市場上的份額越來越小。

這一次的全球“芯片荒”讓世界各國都意識到了掌握芯片制造的重要性，決定重振芯片產業，這其中就包括日本。

眾所周知，芯片制造是一個資金密集型產業，因此日本政府加大了對芯片產業的投資。日本首相曾表示，將為國內芯片生產提供超1.4萬億日元（約123億美元）的投資。

不過，華爾街見聞2021年12月22日報道，東京電子有限公司前總裁東哲郎認為，日本政府應該在下一季度提供稅收減免，同時在未來10年內投資10萬億日元（約880億美元）以振興日本芯片制造產業。

并且，東哲郎表示，日本需要大概10年的時間才能進入芯片制造的前線陣營，期望在這段時間內，日本能夠實現2nm和3nm芯片的量產。

需要注意的是，即便是全球技術最先進的晶圓代工廠臺積電，目前也沒能實現3nm芯片的量產。

日本芯片制造業已經落后多年，想要在10年內沖刺3nm甚至2nm芯片的量產，這個難度著實不小。那么，日本究竟哪里來的底氣沖刺2nm芯片呢？

值得一提的是，日本雖然沒有先進的晶圓廠，但它在半導體材料以及核心設備等領域卻具有明顯的優勢。

以芯片制造過程中必不可少的核心設備——光刻機為例，眾所周知全球能夠提供EUV光刻機的企業只有荷蘭的ASML公司，但其實日本佳能、尼康也是光刻機領域的巨頭。

不僅如此，在ASML公司崛起之前，日本尼康才是全球光刻機霸主，佳能緊隨其后。盡管如今尼康和佳能在高端光刻機領域已經“沒落”，但它們之前在光刻機領域的相關積累，也能在一定程度上給日本的先進制造提供指引。

另外，在EUV光刻膠方面，南大光電在2021年3月發布的相關報告中披露，放眼全球只有日本廠商研發出了EUV光刻膠。

要知道，在芯片制造的過程中，光刻膠的重要性幾乎等同于光刻機，而且光刻膠的精度也制約著芯片制程的推進，若想要生產制造出7nm節點以下的芯片，EUV光刻膠是不可或缺的材料。

除了EUV光刻膠外，日本企業在EUV涂覆顯影設備，以及EUV光罩檢驗設備中領域也做到了全球壟斷。

總而言之，日本在部分半導體材料或設備領域的壟斷，就是它的底氣。而在日本相關企業的配合下，以及政府的資金支持下，日本的確存在復興半導體制造業的可能。

不過，日本芯片的崛起，必然會對中國芯片產業產生一定的威脅，畢竟我國在半導體全產業鏈上的布局還并不完善。