臺積電今天宣布了一個新的制程工藝節點“N4P”——看起來是4nm，但其實是5nm的又一個版本，確切地說是N5、N5P、N4之后的第四個版本、第三個升級版，注重高性能。
臺積電稱，N4P工藝相比最初的N5工藝可提升11％的性能，或者提升22％的能效、6％的晶體管密度，而對比N4可將性能提升6.6％。
此外，N4P工藝會重復使用多層遮罩，因此可大大降低工藝復雜度，加快晶圓生產速度。
臺積電稱，N4P工藝是為客戶5nm工藝平臺產品升級準備的，不但可以最大化挖掘投資價值，還可以更快、更高效地升級N5工藝產品。
臺積電表示，第一款基于N4P工藝的產品預計2022年下半年流片。
臺積電此前披露，N3 3nm工藝將在今年內風險性試產，2022年下半年大規模量產，2023年第一季度獲得實際收入，N3E 2024年量產，N2 2nm 2025年量產。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。