8月11日，華為旗下深圳哈勃科技投資合伙企業（以下簡稱“華為哈勃”）新增對外投資徐州博康信息化學品有限公司（以下簡稱“徐州博康”）。工商信息顯示，徐州博康除了投資人一項新增華為哈勃以外，注冊資本從7600．9499萬元增加到8445．4999萬元。

（源自企查查）

華為哈勃史上最大的半導體投資

作為華為哈勃最新投資的半導體廠商，徐州博康在光刻膠領域可謂實力強勁。OFweek電子工程網注意到，今年4月華為哈勃正式成立，注冊資本20億元。在距今短短4個月的時間里，華為哈勃已經投資了7家企業，徐州博康正是華為哈勃投資的第六家半導體企業。

在此之前，華為哈勃相繼投資了云英谷、天域半導體、強一半導體、天仁微納，以及歐錸德微電子等，可謂是動作頻頻。此次3億元增資徐州博康，也成為了華為哈勃歷史上最大單筆半導體產業鏈投資。

公開資料顯示，徐州博康位于江蘇省邳州經濟開發區，是集研發、生產、經營中高端光刻膠、光刻膠單體和光刻膠樹脂為主的國家高新技術企業，也是目前本土企業中，唯一可以規模化生產中高端光刻膠單體材料的制造商。公司自成立以來一直專注于高端精細化工領域醫藥中間體和高端電子化學品的研發、生產，目前現有職工100多人，其中專業技術人員50人，建有3000m2研發中心，已獲得十多項發明專利，先進的分析檢測設備，完備的中試設備，標準化的生產車間。企業擁有自己的核心技術研發團隊、中試放大團隊及生產團隊，并通過專業化的流程管理來控制產品質量。

徐州博康專注于光刻膠原材料到成品的自主研發及生產，實現了從單體、光刻膠專用樹脂、光酸劑及終產品光刻膠的國產化自主可控的供應鏈；擁有5000平方研發中心，位于松江漕河涇科技綠洲，研發團隊200余人，博士和碩士占比50％以上。配置有KrFNikonS204、I9、I12、ACT8track、日立CDSEM等先進光刻檢測設備，以及其它理化檢測設備如ICP－MS、HPLC、GC、IR等。

徐州博康產品線涵蓋193nm／248nm光刻膠單體、193nm／248nm光刻膠、G線／I線光刻膠、電子束光刻膠等產品。目前已成功開發出40＋個中高端光刻膠產品系列，包括多種電子束膠，ArF干法光刻膠，KrF正負型光刻膠，I線正負型光刻膠及GHI超厚負膠，應用于IC集成電路制造多個環節，服務客戶超100家。

今年6月，徐州博康被列入建議支持的國家級專精特新“小巨人”企業。在產業資本和政府的支持下，徐州博康新建年產1100噸光刻材料及1萬噸電子溶劑新工廠已于2021年6月份正式投產，項目全部達產后，可實現年產值20億元，這也是中國目前第一個可以規模化生產中高端光刻膠的生產基地。

進軍光刻膠，華為半導體領域再加碼

對于華為哈勃這一次出手，業內并不感到意外。有觀點分析認為，華為可能是在培育自己的芯片生產供應鏈。眾所周知，自2018年中美貿易摩擦展開以來，美商務部對華為發動多輪制裁，嚴格限制了華為從美國獲取先進的芯片設計以及芯片制造的渠道，華為最大的合作伙伴臺積電也在助其完成5nm芯片代工后暫停了先進制程方面的合作。

在美國的嚴厲裁下，華為海思麒麟芯片不得不遭遇停產危機，華為手機市場份額出現斷崖式下滑。這一點在華為公布2021年半年業績時也能看出，今年上半年華為實現銷售收入3204億元人民幣，其中消費者業務收入為1357億元人民幣。而華為消費者業務收入在去年上半年為2558億元人民幣，近乎腰斬。

在美國瘋狂的圍追堵截下，中國芯片產業鏈實現自主可控已迫在眉睫，國產替代勢在必行。而建立自主可控的國產芯片產業鏈，不僅僅要實現設計、制造可控，更要實現關鍵材料的自主可控。

光刻膠正是芯片關鍵材料中的重點所在，在此前一篇《芯片制造工藝中需要用到的半導體材料及其龍頭企業盤點》文章中，我們曾介紹過光刻膠是光刻成像的承載介質，其作用是利用光化學反應的原理將光刻系統中經過衍射、濾波后的光信息轉化為化學能量，進而完成掩模圖形的復制。

光刻膠一般由聚合物骨架、光致酸產生劑或光敏化合物、溶劑，以及顯影保護基團、刻蝕保護基團等其他輔助成分組成。光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展，更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。

一直以來徐州博康都是一家非常低調的公司，其在海外的知名度甚至要高于國內。公開資料顯示，徐州博康的客戶也主要面向海外光刻膠大廠，包括在光刻膠領域最知名的幾家公司如JSR、TOK、東麗等。經過近年來的不斷努力與拓展，博康已經擁有完備的光刻膠自供應鏈（單體＋樹脂＋光酸＋光刻膠），可以實現由初始原料到成品膠的全國產化自主化生產。

光刻膠——半導體國產化的一道坎

從年初央視報道的“光刻膠靠搶！”到近期某證券分析師與中芯國際技術負責人在微信群里“互嗆”，光刻膠領域是熱點頻出。今年以來，全球芯片供應緊缺持續，各大晶圓廠積極擴張產能，上游半導體耗材光刻膠等材料需求巨大。同時，我國半導體國產化替代在積極提速，力求實效技術突破。

但由于光刻膠的質量和性能對光刻工藝有著重要影響，技術壁壘很高，因此長期被日本等JSR（日本）、信越華學（日本）、陶氏（美國）等國外企業所主導，光是日本企業在光刻膠領域的市場份額就超過了85％。因此光刻膠依然是目前國內芯片制造領域最卡脖子的材料之一。

雖說光刻膠一直以來都是半導體國產化的一道大坎，但國內廠商也在付出不少的努力之后迎來了高光的表現。今年3月，上海新陽宣布購得ASML的光刻機等核心設備，并在今年6月底宣布，其自主研發的KrF（248nm）厚膜光刻膠已通過客戶驗證，取得首筆訂單，后續將進入產業化階段。

7月27日，南大光電公告稱，公司控股子公司寧波南大光電擬通過增資擴股方式，引入戰略投資者大基金二期，大基金二期擬以合計1．833億元的價格認購公司控股子公司寧波南大光電的新增注冊資本6733．19萬元，認繳出資比例18．33％。。兩天后，南大光電再度發布公告稱，公司承擔的國家科技重大專項（02 專項）已通過專家組驗收。其中包括極大規模集成電路制造裝備及成熟工藝、先進7nm光刻膠產品開發與光刻膠供給鏈產業化。

小結

觀察發現，兩年多來華為哈勃已經投資了近40家國產半導體企業，投資能力堪比一線PE／VC。截至目前華為的投資版圖已經涵蓋了半導體材料、射頻芯片、EDA、測試、CIS圖像傳感器等多個細分領域。不管華為到底有沒有自建芯片產線的計劃，對于徐州博康而言，這都是一次巨大的發展機遇。