10月12日消息，IP和定制芯片企業芯動科技已完成全球首個基于中芯國際FinFET N＋1先進工藝的芯片流片和測試，所有IP全自主國產，功能一次性通過。

在半導體領域，芯片流片也就等同于“試生產”，即設計完電路以后先小規模生產幾片幾十片以供測試用使用，如果測試通過后就能開始大規模量產。中芯國際FinFET N＋1先進工藝的芯片流片和測試完成也就意味著該制程工藝已經具備有意義的“良品率”，并且可以嘗試進行批量生產。

據了解，芯動科技是中國芯片IP和芯片定制的一站式領軍企業，提供全球主流代工廠（臺積電／三星／格芯／中芯國際／聯華電子／英特爾／上海華力／武漢新芯等），從180nm到5nm工藝全套高速混合電路IP核和ASIC定制解決方案，尤其22nm以下FinFET工藝全覆蓋，是迄今為止國內唯一具備兩家代工廠（臺積電、三星）5nm工藝庫和設計流片能力的技術提供商。

無需EUV光刻機，等效7nm技術

關于FinFET N＋1先進工藝，到底能達到什么樣的芯片工藝水平？

在去年，中芯國際聯合CEO梁孟松曾經透露過，FinFET N＋1工藝的功率和穩定性與7nm工藝非常相似，最大的不同在于無需EUV光刻機也可以實現。梁孟松表示，N＋1工藝和14nm相比，性能提升了20％，功耗降低了57％，邏輯面積縮小了63％，SoC面積減少了55％。

在N＋1之后還會有N＋2，這兩種工藝在功耗上表現差不多，主要區別體現在性能及成本上。N＋1工藝是面向低功耗應用領域，成本較低，而N＋2面向高性能領域，成本也會增加。

提到7nm及以上高端工藝芯片，勢必離不開EUV光刻機，而FinFET N＋1和N＋2工藝都不會使用EUV工藝，據梁孟松介紹，在當前的環境下N＋1、N＋2代工藝都不會使用EUV工藝，等到設備就緒之后，N＋2工藝可能會有幾層光罩使用EUV，之后的工藝才會大規模轉向EUV光刻工藝。

“國產版”7nm工藝，或趕上英特爾

在此前公布的2020年上半年財報當中，中芯國際曾表示，第二代先進工藝（N＋1）進展順利，已進入客戶產品驗證階段。9月下旬，中芯國際再度對外回應稱，第二代FinFET N＋1工藝已經進入客戶導入階段，有望于2020年底小批量試產。這個消息比之前的爆料看起來進度更快一些。

當然，說起7nm就不得不提到目前世界上僅有的兩家可以量產7nm芯片的晶圓代工巨頭臺積電和三星。同樣是7nm工藝，臺積電在早期不使用EUV的情況下搞定了7nm芯片的量產，而且效果還很不錯。而三星由于使用EUV設備初期產能低，成本高，因此沒有預想中的順利，比臺積電稍落后一些。

后續能夠緊追前兩大芯片巨頭推出7nm工藝的應該也就中芯國際和英特爾了。然而前段時間英特爾CEO司睿博在接受美媒采訪時表示，工程師在7nm工藝上發現了一些缺陷，目前正在了解這些缺陷，并有計劃解決7nm工藝問題。甚至還傳出英特爾考慮由臺積電或三星來承接其7nm芯片代工的消息。

要知道，7nm工藝對英特爾來說至關重要，這不僅是10nm之后一個重要的高性能節點，也是英特爾首次使用EUV光刻工藝在制程工藝上的關鍵之戰，若英特爾7nm芯片真的跳票至2023年才推出，或許中芯國際有望在制程上趕超英特爾。

中芯國際能否破局眼下困境？

作為國內最耀眼的芯片廠商之一，中芯國際自上市回A以來頻頻引發市場關注。

OFweek電子工程網從中芯國際招股書中了解到，中芯國際2017年－2019年營業收入表現亮眼，營業收入趨于平穩，分別為2138982．24萬元，2301671．68萬元，2201788．29萬元；凈利潤呈現上升趨勢，分別為124499．06萬元，74727．83萬元，179376．42萬元。

（來源：中芯國際招股說明書）

（來源：中芯國際招股說明書）

眾所周知，半導體產業是一個技術密集產業，研發難度大，研發時間長，支出的研發經費和需要的支撐條件也非常高。國內有不少像海思、紫光展銳這類能與國際一線大廠并駕齊驅的芯片設計企業，但在芯片制造環節卻難以企及國外大廠。

而根據TrendForce集邦咨詢旗下拓墣產業研究院發布最新調研結果，2020年第三季度全球前十大晶圓代工廠收入預測排名中，中芯國際排在了第五位，實屬難能可貴。亮眼的營收表現自然也容易引起他人的“注意”。

最初在華為遭遇美國芯片禁令之時，中芯國際就被人們認為是最有可能接替臺積電為華為代工的企業之一，但后續的多次傳言表示中芯國際可能會被美國“拉黑”。

（晶圓——圖片源自OFweek維科網）

早在7月份中芯國際回A上市招股書里就曾提及，或許會受到來自美國的監管限制導致無法為“若干客戶”代工。

9月5日，路透社報道稱，美國防部一位發言人表示，其正在與其他機構合作，決定是否將中芯國際列入實體企業名單。另據消息人士透露，五角大樓本周已提交一份建議給美國商務部等相關部門，最終中芯國際是否列入實體名單，需由商務部等確定。

對此中芯國際回應表示，中芯國際作為一家同時在香港證券交易所及中國大陸A股上市的國際化運營的集成電路制造企業，公司嚴格遵守相關國家和地區的法律法規，并在此基礎上一直合法依規經營；且與多個美國及國際知名的半導體設備供應商，建立多年良好的合作關系，美國商務部多年來針對中芯國際進口采購的設備，也已經核發多件重要的出口許可。

聲明中還稱，中芯國際自成立以來從沒有任何涉及軍事應用的經營行為，與中國軍方毫無關系。2016年及以前，中芯國際還是經美國商務部正式認可的“最終民用廠商”（Validated End－User）。

10月4日，中芯國際確認稱，經過多日與供應商進行詢問和討論后，知悉美國商務部工業與安全局已根據美國出口管制條例EAR744．21（b）向部分供應商發出信函，對于向中芯國際出口的部分美國設備、配件及原物料會受到美國出口管制規定的進一步限制，須事前申請出口許可證后，才能向中芯國際繼續供貨。

“針對該出口限制，公司和美國工業與安全局已經展開了初步交流，我們將繼續積極與美國相關政府部門交流溝通。”中芯國際回應稱。

10月8日，華爾街日報和路透社再次報道消息稱，標普全球評級10月將中芯國際“BBB－”的長期主體信用評級列入了“負面信用觀察名單”，原因就在于其近日確認了受到的美國商務部制裁。這將成為繼貿易出口限制之后，美國商務部制裁給中芯國際帶來的一次嚴重的“次生災害”。

實際上，去年光刻機霸主ASML的高端EUV光刻機一直無法交付到已訂購了該產品的中芯國際手中，業內不少人認為是受到美國限制的原因。由于EUV光刻機是制造高端芯片環節中最重要的設備，中芯國際芯片先進工藝研發也因此推遲。雖然當下7nm工藝工藝傳出利好消息，但未來還是需要抓起過去諸多被落下的芯片基礎學科和技術，把每一項都錘煉到極致，才有沖擊高端芯片的可能。