中國上海，2024年8月2日——中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”，上交所股票代碼：688012）今日迎來成立20周年紀念日，并于臨港產業化基地隆重舉行“20周年盛會華章暨臨港基地落成慶典”。上海市委常委、臨港新片區黨工委書記、管委會主任陳金山等各級相關政府領導、行業合作伙伴、股東代表等約800人出席活動，共同見證了這一具有深遠意義的重要時刻。臨港產業化基地的正式投入使用，為中微公司風華正茂二十載的發展歷程再添輝煌一筆，為未來的加速發展注入新的活力和動力， 也為不斷攀登巔峰的征程開啟了新篇章。

　　中微公司董事長、總經理尹志堯博士致辭

　　慶典活動上，政府領導代表、中微公司創始人、董事長兼總經理尹志堯博士攜公司初創團隊成員共同按下啟動裝置，宣布臨港產業化基地正式啟用。臨港產業化基地占地約157畝、總建筑面積約18萬平方米，配備行業領先的實驗室、業界高標準的潔凈室、先進的生產車間及智能化立體倉庫等設施，可實現生產全程數字化、智能化管理，從而為公司進一步強化生產能力、研發能力和科技創新水平提供了有力支撐。

　　中微公司臨港產業化基地啟用儀式

　　“屹立在世界的東方，迎著初升的太陽，攀登勇者的夢想，志在巔峰的殿堂……”慶典活動在為中微公司20周年特別創作的《中微之歌》中拉開序幕。“芯片越做越小，我們越戰越強”，這首《中微之歌》由尹志堯博士親自擔任制作人，著名作曲家安棟教授作曲，金牌作詞人甘世佳作詞，旋律慷慨激昂，鏗鏘有力，不僅承載著中微人“攀登勇者，志在巔峰”的理想和追求，也唱出了所有科創人的心聲和夢想。

　　在慶典上，中微公司創始人、董事長兼總經理尹志堯博士發表講話，他表示：“20年前，我們從一張白紙，籌劃實現高端芯片設備的宏偉夢想。我們一次次沖破險阻而立于不敗之地，這一切都源自我們‘攀登勇者，志在巔峰’的雄心壯志和‘自強不息，厚德載物’的團隊奮斗精神！這一切都來源于我們所認同的和我們所遵循的‘四個十大’，這包括：產品開發的十大原則，戰略銷售的十大準則，營運管理的十大章法和精神文化的十大作風。今天，我們的心中充滿了感激。我們所從事的半導體微觀加工設備的產業，是數碼產業基石，我們選擇的是打造‘國之重器’這條艱難的道路。中微公司上下一心，用技術的創新，產品的差異化和知識產權的保護，攻克了一個又一個的技術難關，用優質過硬的產品獲得了市場認可，用高效完善的服務贏得了客戶信賴。回首過往的二十年，我們實現了從一到十的進展。展望下一個二十年，我們要實現十到一百的跨越！”

　　慶典儀式結束后，與會嘉賓們參觀了臨港產業化基地的多媒體展廳、研發與生產潔凈室、智能倉儲等生產區域以及員工宿舍、泳池、健身中心等生活區域，并對基地內的各種軟硬件設施表示了高度贊賞。臨港產業化基地采用先進廠務管理系統，配備智能化立體倉庫，實現了對制造資源跟蹤、生產過程監控。智能制造信息化平臺的搭建，讓中微公司大幅提高了生產質量、生產效率，降低了生產成本，為保證全球客戶供應打下堅實基礎。臨港產業化基地踐行綠色發展理念，致力打造綠色工廠，并通過不斷探索實踐，積極應對氣候變化，助力公司2035年實現自身碳中和的目標。

　　中微公司臨港產業化基地

　　砥礪奮進，追求卓越

　　回顧中微公司二十年發展歷程，從2004年一張白紙開始的初創公司，成長為2019年首批科創板上市企業；從當初一支僅有15人的創業團隊，逐漸成長為如今全球員工超過兩千人的規模；從張江高科技園區內一間不起眼的辦公室，逐步發展為廠房和辦公樓面積即將達到45萬平方米的規模；從起步階段在技術領域不斷探索嘗試，到擁有兩千余項授權專利、技術能力；從2007年首臺刻蝕設備、薄膜設備研制成功并運往國內客戶，到2024年公司累計已有超5000個反應臺在國內外130多條生產線實現量產和大規模重復性銷售，中微公司在二十年堅韌不拔的發展過程中，持續追求技術創新和卓越運營，深刻詮釋了“攀登勇者，志在巔峰”的中微精神。

　　二十年來，中微公司在不斷攀登高峰的路上成果頗豐。公司在科學技術、客戶滿意度、知識產權、質量認證等領域獲得眾多贊譽，累計榮獲百余項知名獎項。在美國TechInsights全球客戶滿意度調查中，中微公司連續多年排名位居前列。2023年，公司榮獲“上海市科技進步一等獎”，并還多次入選福布斯中國最具創新力企業50強榜單。公司高度重視技術創新與知識產權保護，在產品開發過程中始終堅持“為技術的創新、設備的差異化和IP保護而開發”的企業文化。截至2024年6月，公司累計申請專利已達2648項，已獲授權專利1670項，其中發明專利占比高達85.87%。此外，公司兩次榮獲“中國專利金獎”，多次榮獲“中國專利優秀獎”、“上海市發明創造專利獎”和“上海市知識產權創新獎”等獎項。如今，中微公司已成為中國國內半導體設備的領先企業，也是國際半導體設備產業冉冉升起的一顆新星。

　　創新驅動，持續攀登

　　正是基于這樣的創新能力，中微公司在刻蝕設備、薄膜沉積設備、MOCVD設備等領域均取得了顯著成就。在刻蝕設備方面，憑借行業首創的刻蝕設備雙臺機技術，中微公司率先提出“皮米級”加工精度概念，其刻蝕精度已經達到100“皮米”以下水平，相當于頭發絲350萬分之一的精準度，并且產品具備刻蝕應用覆蓋豐富等優勢，能夠滿足90%以上的刻蝕應用需求，技術能力已覆蓋5納米及以下更先進水平。中微公司刻蝕設備市場占有率持續提升，不斷收到領先客戶的批量訂單。

　　中微公司持續加碼創新研發，在半導體薄膜沉積設備領域也不斷突破，推出了Preforma Uniflex^? CW、Preforma Uniflex^? HW、Preforma Uniflex^? AW等多款新產品以滿足市場需求，為公司業務多元化發展提供了強勁的增長動能。此外，公司新開發的硅和鍺硅外延EPI設備、晶圓邊緣Bevel刻蝕設備等多款新產品，也會在近期投入市場驗證。

　　在MOCVD設備方面，中微公司自推出第一代MOCVD設備PRISMO A7?以來，不斷豐富產品線且快速升級迭代，目前在Mini LED等氮化鎵基設備領域，中微公司的市場占有率穩居前列，并持續開發用于氮化鎵、碳化硅等功率器件及Micro-LED器件制造的MOCVD設備。此外，中微公司還通過投資布局了第四大設備市場——光學檢測設備。

　　在集成電路產業飛速發展的浪潮中，中微公司以高端半導體設備為核心，堅持技術的創新、產品的差異化和知識產權的保護，不斷開發具有市場競爭力的設備；同時，中微公司將整合產業鏈上下游和相關資源作為另一發力點，積極考慮投資和并購，推動公司更快發展。預計未來五到十年，中微公司將通過自主研發以及攜手行業合作伙伴，覆蓋集成電路關鍵領域50%至60%的設備。

　　夯實根基，蓄勢發力

　　隨著臨港產業化基地的全面投入使用，中微公司的未來發展藍圖正徐徐展開。2023年7月，14萬平方米的中微公司南昌生產研發基地落成并投入使用；目前，位于滴水湖畔的中微臨港總部暨研發大樓也正在建設中，建成后占地面積約10萬平方米。未來，中微公司的生產和研發基地總面積將達到約45萬平方米，為今后的大發展夯實基礎。

　　此外，中微公司也在全球多點布局，匯聚研發勢能。目前，中微公司的客戶遍布中國大陸和中國臺灣、新加坡、韓國、德國、意大利等10多個國家和地區，在全球范圍內擁有2000多名員工，其中研發人員占比接近半數。

　　展望未來，中微公司將繼續秉持“攀登勇者，志在巔峰”的精神，踐行“四個十大”的企業文化，深入推進三維發展戰略，持續提升綜合競爭力，在技術進步、業務發展、業績增長、規范治理等方面不斷提高水平，實現高速、穩定、健康和安全的發展，為客戶和市場提供性能優越、高生產效率和高性價比的設備解決方案，為全球半導體行業的發展做出更大的貢獻。

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