5月24日消息，日前上海新陽在業績說明會上表示，公司光刻膠ArF、ArF－i研發進展順利，已經形成兩個系列試驗產品，樣品已經進入客戶端進行測試。由于測試耗時比較長，近期不會有銷售的發生，但是產品總體技術的指標還都比較不錯，我們現在對這方面也比較有信心。

此外，公司2021年完成了幾款KrF光刻膠產品的研發、驗證并實現銷售，在手訂單中含有國內主流頭部芯片制造公司等大小客戶，覆蓋鋁線制程和銅線制程，用于邏輯、模擬等芯片的生產制造。由于客戶對于光刻膠的使用都會比較謹慎，目前還都是小批量使用，所以今年的銷售額可能不會很大，但明年用量可能會增加較多，后續增長空間較大。

眾所周知，光刻膠是芯片關鍵材料中的重點所在，光刻膠是光刻成像的承載介質，其作用是利用光化學反應的原理將光刻系統中經過衍射、濾波后的光信息轉化為化學能量，進而完成掩模圖形的復制。

光刻膠一般由聚合物骨架、光致酸產生劑或光敏化合物、溶劑，以及顯影保護基團、刻蝕保護基團等其他輔助成分組成。光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展，更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。

一直以來，光刻膠都是芯片關鍵材料中的重點所在，由于國內光刻膠領域起步較晚，技術嚴重落后等原因，導致我國半導體芯片領域的光刻膠需求主要由外資企業來滿足，日美廠商占據了約87％的份額，國內光刻膠產品進口比例高達九成。

如今上海新陽的KrF光刻膠產品成功打入國內主流芯片公司，意味著國內光刻膠產業再獲得重大突破，實現國產替代指日可待。