近年來，關于臺積電先進封裝的報道越來越多，在這篇文章里，我們基于臺積電Douglas Yu早前的一個題為《TSMC packaging technologies for chiplets and 3D》的演講，給大家提供關于這家晶圓廠巨頭在封裝方面的的全面解讀。為了讀者易于理解，在演講內容的基礎上做了部分補充。

　　本文首先從Douglas Yu演講目錄開始，然后是各項詳細的內容。首先，簡單地敘述半導體產業迎來了轉折點，然后進入本論部分，即TSMC的最先進的封裝技術。具體如下，被稱為“3D Fabric”的2.5/3D的集成化技術、System scale up和封裝內部的互相連接的scale down。

　　其次，再進入第二項本論一一集成不同類型元件的新封裝技術。具體而言，解釋最先進的放熱技術、硅光電子（Silicon  Photonics）的集成化技術。文章的最后為匯總部分。

　　Front-end 和Back-end的3D封裝

　　被TSMC稱為“3D Fabric”的2.5/3D集成化技術由Front-end（FE 3D） 和Back-end（BE 3D）兩處工程構成。Front-end（FE 3D）是一種堆疊硅芯片（Silicon Die）后并相互連接的工藝技術。有多種分類，如將采用不同代際技術生產的硅芯片（Silicon Die）連接起來的技術、把硅芯片（Silicon Die）與其他材質的Die搭載于同一塊基板上的技術等。

　　Back-end（BE 3D）是一種高密度地把多個硅芯片（Silicon Die）連接起來的同時，再與封裝基板連接的技術。之前，TSMC開發了用于智能手機的封裝技術“InFO（Integrated Fan-Out，集成扇出型）”和用于高性能計算機的封裝技術“CoWoS（Chip on Wafer on Substrate，晶圓級封裝）”。二者都具有豐富的量產實績。

　　Front-end的SoIC有兩種技術，其一為“CoW（Chip on Wafer）”，即一種在硅晶圓（Silicon Wafer）上堆疊芯片（Die）的技術；其二為“WoW（Wafer on Wafer）”，即一種將多片芯片（Silicon Wafer）堆疊起來的技術。此處需要注意的是，SoIC并不是一種將電氣信號和電源系統等與外部（封裝外部）連接的技術。通過與Back-end的3D Fabric或者傳統的封裝技術相結合，來實現半導體封裝。

　　就Back-end的“InFO（Integrated Fan-Out，集成扇出型）”而言，它利用線路重布層（RDL：Redistribution Layer，一種將硅芯片（Silicon Die）的輸入/輸出電極引到外部的排線層）和外部電極（焊錫 Bump）實現高集成度的封裝技術（InFO的概要將會在后續文章種進行介紹）。此外，還存在一種被稱為“LSI（Local Silicon Interconnect）”的技術，即高密度地連接相鄰芯片的技術。

　　“CoWoS（Chip on Wafer on Substrate，晶圓級封裝）”是一種密集地放置硅芯片（Silicon Die）的高集成度封裝技術。即在可形成精細的排線和電極的“中間基板（Interpoer）”上密集地放置多個硅芯片（Silicon Die）（CoWoS技術將會在后續文章中詳細敘述）。“中間基板（Interpoer）”有硅和RDL兩種選擇項。

　　多個裸片（Die）連接技術

　　如上文所述，“3D Fabric”由Front-end（FE 3D）和Back-end（BE 3D）兩種技術構成。Front-end（FE 3D）中有一種被稱為“SoIC（System on Integrated Chips）”的、堆疊連接硅芯片（Silicon Die）的技術，這是一種可以支持“小芯片化”的技術。“小芯片化”指的是有意地將單顆芯片（Single Die）的系統LSI（SoC：System on a Chip）分割為多個芯片（Chiplet）的技術。這項技術最近才開始量產。

　　Back-end 3D（BE 3D）有兩種將多個硅芯片（Silicon Die）高密度相互連接的技術。其一，用于智能手機的“InFO（Integrated Fan-Out，集成扇出型）”；其二，用于高性能計算機（HPC）的“CoWoS（Chip on Wafer on Substrate，晶圓級封裝）”。二者都已擁有豐富的量產實績。

　　Front-end 3D的SoIC大致分為兩類。其一，利用多個制造代際技術迥異的小芯片（Silicon Die，Mini-die）來完成一個系統（相當于以往的System LSI），即Chiplet結構。可連接的“小芯片（Mini-die）”有各式各樣，如利用最先進的工藝技術生產的N代際Mini-die、N-1代際的Mini-die、以及N-2代際的Mini-die等等。

　　其二，利用工藝技術迥異的多個硅芯片（Silicon Die）組成一個模組（Module），即異構結構（Heterogeneous）。比方說，將利用邏輯半導體工藝生產的硅芯片（Silicon Die）和利用存儲半導體工藝技術生產的硅芯片（Silicon Die）組合起來。

　　從“CMOS”轉為“CSYS”

　　就以往的半導體研發技術而言，技術每進步一個代際，單個硅芯片（Silicon Die，或者稱為Single Chip）上搭載的晶體管數量大約增加兩倍。反過來看，每代技術下，集成同樣數量的晶體管所需要的硅面積卻減少一半。其實現的前提如下，即盡可能地將更多的線路埋入CMOS的單個芯片（Sigle Die）里，即所謂的“單芯片（Monolithic）集成的最大化”。

　　但是，就當下最先進的7納米、5納米代際的CMOS生產而言，將利用不同代際技術生產的多個芯片（Die）組合起來、構成一個系統的做法正在成為最佳解決方案。TSMC把這項解決方案稱為“CSYS（Complementary Systems, SoCs and Chiplets integration”。

　　組成一個系統的半導體技術事例。

　　（a）是傳統的系統LSI（SoC），在單顆芯片（Sigle Die）上實現最大規模的線路。

　　（b）為在邏輯芯片（Logic Die）上堆疊邏輯芯片（Logic Die）（或者存儲芯片）的事例（SoIC）。

　　（c）為水平放置邏輯芯片（Logic Die）（或者存儲芯片）的事例。

　　（d）為在（c）的基礎上，堆疊傳感器芯片（Sensor Die）、高電壓線路（HV）、邏輯芯片（Logic Die）（或者存儲芯片）的SoIC事例。

　　以往，人們不會把采用不同工藝生產的硅芯片（Silicon Die）匯集在一起，而是把采用相同工藝技術生產的硅芯片（Silicon Die）封裝在一起，且人們認為這有利于降低整體的成本。但是，就7納米、5納米等尖端的技術工藝而言，邏輯半導體的微縮化使成本不斷增加，同時，難以實現微縮化的線路區塊（Block）越來越多。

　　于是，微縮化的優勢僅存在于大型的線路區塊（Block）中，而采用尖端工藝變得越來越普遍。相反，將多個芯片（Die）以2.5/3D的形式連接起來的集成技術（即先進封裝技術）的比重越來越大。更準確地說，要實現先進系統的研發，先進的封裝技術是極其重要的。

　　用于智能手機的“InFO”的發展

　　以下開始介紹TSMC研發的先進封裝技術的最新發展方向。

　　TSMC的先進封裝技術始于用于高性能計算的“CoWoS（Chip on Wafer on Substrate，晶圓級封裝）”和用于智能手機的“InFO（CoWoS（Chip on Wafer on Substrate，集成扇出型）”。“CoWoS”在2012年前后開始被采用，已經有十年的量產實績。InFO因在2016年被用于“iPhone 7”的“A10”處理器，而被人們熟知。

　　CoWoS和InFO已經具有十年以上的研發歷史，至此已經派生出多種產品。此外，最近由于SoIC（System on Integrated Chips）研發的進步，將SoIC與CoWoS或者InFO結合的3D封裝開始“登場”。

　　接下來，我們來看看InFO的“衍生品”。就最初的InFO而言，其標準是，在被稱為“InFO PoP（Package on Package）”的InFO上搭載低功耗版本的DRAM（封裝產品）。主要用途為智能手機的應用處理器（AP）。將AP封裝于InFO上，并搭載DRAM，一個小而薄的模組就誕生了。

　　最近，又研發了一項名為“InFO_B（Bottom Only）”的技術，即可由TSMC以外的其他企業搭載DRAM。與FCCSP相比，可以獲得更高的性能。在外形尺寸同樣為14mm見方的情況下，比較InFO_B和FCCSP后發現，InFO_B的優勢如下：有效控制電源電壓下降、可容納更大尺寸的芯片（Die）、可容納更厚的芯片（Die）。

　　對InFO的另一個重要的研發是，針對高性能計算機（HPC）的改良，這一點我們將在下文中詳細敘述。

　　“InFO”技術在HPC的應用

　　TSMC研發了用于高性能計算機（HPC）的“CoWoS”，且已有十年以上的量產實績。CoWoS雖然是一種可應用于高速、高頻信號的優秀封裝技術，但它有一個致命的弱點。由于“中間基板（Interposer）”采用的是大型的硅基板，因此生產成本極高。

　　InFO作為一種用于智能手機的封裝技術，不需要封裝基板。因此，生產成本較低。于是，基于“InFO”，在搭載多個芯片（Multi-die，或者Chiplet）的前提下，通過增加封裝基板，試圖應用于HPC，即“InFO_oS”，也可以看做是CoWoS的廉價版。

　　InFO_oS的首代產品于2018年開始量產。RDL的面積最大可達Reticle的1.5倍（1,287平方毫米左右）。被看做是Net-work-switch模組。第二代產品為搭載了10顆Chiplet的模組。結構如下：兩顆邏輯Mini-die，8顆用于輸入/輸出（IO）的Mini-die。RDL部分的面積為Reticle的2.5倍（51mm×42mm）。基板的大小為110mm見方。預計在2021年內量產第二代產品。

　　介紹兩種改良的InFO封裝

　　本文開始介紹兩種改良了“InFO”技術的封裝方式，都是應用于高性能計算機的。其一，堆疊兩個“InFO”，即“InFO_SoIS（System on Integrated Substrate）”；其二，在模組（尺寸和晶圓大小相近）上橫向排列多個硅芯片（Silicon Die，或者Chip），再通過“InFO”結構，使芯片和輸入/輸出端子相互連接，即“InFO_SoW（System on Wafer）”。

　　首先，我們介紹一下堆疊了兩個“InFO”的“InFO_SoIS（System on Integrated Substrate）”的技術概要。在演講幻燈片中展示的“InFO_SoIS”封裝中展示了如下結構。首先，在RDL（線路重布層，Redistribution Layer）上放置SoC（System on a Chip）芯片和I/O芯片，通過RDL將信號線和電源線引到下面。這種結構被稱為“InFO 1”。被引到下面的信號線和電源線經由微型凸塊（Micro Bump）與具有多層排線結構的樹脂基板（RDL）相連接。在多層樹脂基板的底部廣泛分布著將信號線和電源線引出的凸塊（Bump），且凸塊的間距（Pitch）比InFO 1更寬。這種結構被稱為“InFO 2”。此外，樹脂基板的四周還設計有防止翹曲的“加強環（Stiffener Ring）”。

　　試做的”InFO_SoIS“封裝品將一個SoC、四個I/O 芯片容納于InFO 1中，下部由InFO 2支撐。尺寸為91毫米見方。硅芯片（Silicon Die）全部為良品，封裝、組裝的良率超過95%。此外，100毫米見方的”InFO_SoIS“的封裝良率達到了100%。

　　且對試做的”InFO_SoIS“封裝品和傳統的樹脂基板（GL102）在毫米波帶中的損耗進行了比較。在28GHz情況下，插入損耗（溫度25度一一125度）減少了約25%，在50GHz下，減少了約30%。

　　InFO實現了晶圓級超大處理器

　　上文中，我們介紹了支持毫米波信號的”InFO_SoIS“的概要，下面我們介紹晶圓級（Wafer Scale）的超大型封裝技術一一”InFO_SoW“的概要。”InFO_SoW“技術被AI初創公司Cerebras Systems研發的晶圓級深度學習處理器”WSE（Wafer Scale Engine）“采用。WSE的芯片尺寸極大，為215毫米見方，與直徑為300毫米的硅晶圓相匹配。

　　”InFO_SoW“技術的特點如下，將大規模系統（由大量的硅芯片組成）集成于直徑為300毫米左右的圓板狀模組（晶圓狀的模組）上。通過采用InFO技術，與傳統的模組相比較，可以獲得更小型、更高密度的系統。

　　模組的構成如下：晶圓狀的放熱模組（Plate）、硅芯片（Silicon Die）群、InFO RDL、電源模組、連接器等。硅芯片群的相互連接、硅芯片群和電源模組以及連接器之間的連接都借由RDL完成。

　　演講中，還比較了采用倒裝芯片（Flip Chip）技術的Multi-chip-module（MCM）和”InFO_SoW“。與MCM相比，相互連接的排線寬度、間隔縮短了二分之一，排線密度提高了兩倍。此外，單位面積的數據傳輸速度也提高了兩倍。電源供給網絡（PDN）的阻抗（Impedance）明顯低于MCM，僅為MCM的3%。

　　CoWoS：十年五代的封裝技術

　　如上文所述，TSMC根據中間基板（Interpoer）的不同，把”CoWoS“分為三種類型。第一，把硅（Si）基板當做中間基板，即CoWoS_S（Silicon Interposer），這就是在2011年研發的最初的”CoWoS“技術，與過去的”CoWoS“相比，它的先進之處在于，它是一種把硅基板當做中間基板的先進封裝技術。

　　第二為”CoWoS_R（RDL Interposer）“，即把RDL（線路重布層，Redistribution Layer）當做中間基板。第三為”CoWoS_L（Local Silicon Interconnect and RDL Interposer）“，即把小型的硅芯片（Silicon Die）和RDL當做中間基板。但是，需要讀者留意的是，TSMC把”Local Silicon Interconnect“縮寫為”LSI“。

　　”CoWoS_S（原來的CoWoS）“是在2011年開發的，且被稱為”第一代（Gen-1）“。被Xilinx的高端FPGA等產品采用。硅制中間基板的最大尺寸為775平方毫米（25mmx31mm）。幾乎接近于一張Reticle 的曝光尺寸（26mm×33mm，ArF液浸式掃描情況下）。即，FPGA芯片（Die）的生產技術為28納米的CMOS工藝。就采用了此款技術的Xilinx的高端FPGA”7V2000T“而言，將四顆FPGA邏輯芯片搭載于”CoWoS_S“上。

　　就2014年研發的第二代”CoWoS_S“而言，硅制中間基板的尺寸擴大到了1,150平方毫米。接近于1.5張Reticle的曝光面積（1,287平方毫米）。在2015年，被Xilinx的高端FPGA”XCVU440“采用。搭載了三顆FPGA的邏輯芯片。FPGA芯片的制造技術為20納米的CMOS工藝。

　　就2016年研發的第三代”CoWoS_S“而言，雖然硅制中間基板的尺寸沒有什么變化，但是首次混合搭載了高速DRAM模組（HBM）、邏輯芯片。在2016年，被NVIDIA的高端GPU（GP100）采用。混合搭載了GPU芯片和”HBM2“。”HBM2“為硅芯片（Silicon Die）壓層模組（通過TSV將四顆DRAM芯片和一顆Base Die（位于最下層）連接起來），”GP100“上搭載了四顆HBM2模組。將容量為16GB（128GBit）的DRAM和GPU高速連接。

　　就2019年研發的第四代”CoWoS_S“而言，硅制中間基板的尺寸擴大至相當于兩張Reticle的曝光面積。幾乎達到了1,700平方毫米。這款大型的中間基板上混合搭載了大規模的邏輯芯片和六個HBM2。單個HBM2的存儲容量增加到了8GB（64GBit），因此合為計48GB（384 GBit），容量是第三代的三倍。

　　如上所述，原本中間基板的尺寸就很大，如今愈來愈大。第一代的面積為775mm2（相當于一張Reticle），第二代和第三代的面積相當于1.5張Reticle，分別為1,150mm2、1,170mm2。第四代面積進一步增大，相當于兩張Reticle，為1,700mm2。

　　最初搭載在中間基板上的硅芯片（Silicon Die）為多個邏輯芯片（Logic Die），第三代以后開始混搭邏輯芯片和存儲芯片。即開始混合搭載邏輯芯片（SoC）、高速DRAM模組”HBM（High Bandwidth Memory）“的壓層芯片（Die）群。具體而言，一顆SoC芯片和四顆HBM（4Gbit*4顆，合計為16Gbit）。就第四代而言，在SoC芯片面積（集成程度）擴大的同時，混搭的HBM增至六個。通過將單個HBM的存儲容量增加兩倍，使HBM的總容量較第三代增長了三倍（48Gbit）。

　　就今年（2021年）第五代（CoWoS_S，原來的CoWoS）而言，硅制中間基板的面積擴大至2,500mm2，相當于三張Reticle，同時，搭載了八個HBM，這相當于第三代的兩倍。邏輯硅芯片（Logic Silicon Die）還是Chiplet，兩顆Mini-die被放置在1,200mm2的區域內。可搭載的HBM的規格為”HBM2E（即HBM的第二代強化版）“。

　　就硅制中間基板的RDL（線路重布層，Redistribution Layer）而言，通過提高銅（Cu）排線的厚度，使方塊電阻（Sheet Resistance）減少了一半（甚至更多）。通過5層銅排線使硅芯片（Silicon Die）相連接。此外，為了進一步減少硅通孔（Through Silicon Via, TSV）的高頻損耗，針對TSV進行了再次設計。在2GHz～14GHz高頻帶的插入損耗（S21）為0.1dB（甚至更高），重新設計后為0.05dB。此外，通過將”嵌入式深溝電容（eDTC，embedded Deep Trench Capacitor）“裝入硅制中間基板，穩定了電源系統。eDTC的容量密度為300nF/mm2。在100MHz~2GHz頻帶，電源分布網絡（PDN）的電阻抗（Impedance）減少了35%（得益于eDTC）。

　　新一代（第六代）的”CoWoS_S“預計在2023年研發。硅制中間基板的尺寸達到4張Reticle的尺寸。計算下來為3,400mm2左右（約58.6mm見方）。邏輯部分搭載兩顆（或者更多）Mini-die，存儲部分搭載了12個HBM。對應的HBM的規格為”HBM3“。