10月29日，上交所披露科創板上市委2021年第79次上市委審議會議結果公告，拓荊科技股份有限公司(下稱“拓荊科技”)首發上市獲通過。
上會稿顯示，拓荊科技此次擬募集資金10億元，扣除發行費用后，將投資于高端半導體設備擴產項目，先進半導體設備的技術研發與改進項目、ALD設備研發與產業化項目及補充流動資金。上市后預計市值不低于30億元。
資料顯示，拓荊科技主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務，公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備，主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產品系列，已廣泛應用于國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線，并已展開10nm及以下制程產品驗證測試。
拓荊科技的前三大股東分別為國家集成電路產業投資基金股份有限公司、國投（上海）科技成果轉化創業投資基金企業（有限合伙）、中微半導體設備（上海）股份有限公司，其中國家集成電路產業投資基金的持股比例為26.48%。
據披露，拓荊科技是國內唯一一家產業化應用的集成電路PECVD、SACVD設備廠商，其產品產品已適配國內最先進的28/14nm邏輯芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128層3D NAND FLASH晶圓制造產線，2.5D、3D先進封裝及其他泛半導體領域，被成功應用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、廈門聯芯、燕東微電子等國內主流晶圓廠產線。
數據顯示，2021年1-3月，拓荊科技的前三大客戶為長江存儲、華虹集團、以及中芯國際。
拓荊科技表示，主要由于公司所處半導體設備行業具有量少價高的特點，且存在驗收時間和收入確認時間集中在下半年和第四季度的行業特性。因此，2021 年第一季度公司的銷量較少，導致客戶集中度無法被銷量分攤。
