近日,韓媒BusinessKorea報道稱三星SDI已開始開發半導體光刻膠 (PR),旨在將幾乎由日企壟斷的光刻膠生產內部化。

事實上,這則消息并不突兀,因為早在2019年的時候,當日本斷供韓國光刻膠的時候,就傳了類似的消息。

不過三星SDI一直以來,并沒有提及光刻膠開發項目的啟動和完成時間,只是表示一旦完成開發,不僅是自用,還要向其他半導體公司和其他使用光刻膠的公司出售。

而基于這次BusinessKorea報道,三星SDI表示,公司確實在開發各種類型的光刻膠,包括EUV光刻膠。

光刻膠目前主要有5大類,分別是g線、i線、KrF、ArF、EUV,這5種光刻膠針對不同的工藝制程。g線/i線主要用于250nm以上工藝;KrF用于250nm-130nm工藝;ArF用于130nm-14nm;EUV光刻膠主要用于7nm及以下工藝。

我們知道日本在光刻膠領域是處于壟斷地位的,在g線/i線、KrF、ArF、EUV這幾種光刻膠市場中,日本企業的市占率分別為61%、80%、93%,100%,總體份額超過75%。

也正因為如此,所以一旦日本要斷供光刻膠,對所有的芯片制造企業而言,都是一個大大的打擊,特別是對于三星這樣的廠商而言,畢竟EUV光刻膠只有日企才有,而三星生產7nm及以下的芯片,必須用到EUV光刻膠。估計這也是三星要研發光刻膠的原因,這樣不至于讓日本廠商卡住了脖子。

事實上,中國光刻膠同樣處于尷尬地位,目前國內g線/i線光刻膠自給率約為20%,KrF光刻膠自給率不足5%,ArF光刻膠自給率為0,完全依賴進口,而EUV光刻膠就更加不用提了,自然不可能有,不過反正也不需要,國內生產技術還14nm,用不到EUV光刻膠。

國內最牛的南大光電,前段時間表示已經研發出了ArF光刻膠,但還只能用在50nm工藝上,低于50nm工藝的光刻膠,意味著全部要進口。

所以我們真應該向三星學習,目前國內芯片產業高速發展,光刻膠是制造中必不可少的一種材料,必須自研才行,否則隨時被日企卡脖子,你覺得呢?