眾所周知,目前嚴重制約國產芯片制造技術進步的設備,就是光刻機了,因為目前全球最先進的光刻機是ASML的EUV光刻機,用于7nm及以下的芯片生產,僅ASML能夠生產,卻不能賣給中國大陸。

而國內最強的上海微電子生產的光刻機,還在90nm,業內人士表示,我們與ASML的差距可能得有10年以上。

也正因為買不到EUV光刻機,所以我們目前的芯片制造技術還停留在14nm,所以發展自己的光刻機,成為了當前芯片市場的重中之重。

而近日,傳出一則消息,那就是華為也開始布局光刻機了,華為旗下的專業投資半導體產業的哈勃投資,正式入股北京科益虹源光電技術有限公司。

所占股份大約為4．7619%,而投資金額大約在1000萬元左右,目前科益虹源的注冊資金變成了20160萬元。

科益虹源是什么來頭?它是國內唯一,也是全球第三家具備193nm ArF準分子激光技術研究和產品化的公司。

在2018年的時候,科益虹源自主設計開發的國內首臺高能準分子激光器順利出貨,目前已經是國內光刻機廠商上海微電子的光源系統供應商。

此外,科益虹源還承擔了“02重大專項浸沒光刻光源研發”、“02重大專項核心零部件國產化能力建設”、“02重大專項集成電路晶圓缺陷檢測光源”等國家專項,可以說是目前在光刻機光源這個核心技術上,最厲害的國產廠商了。

當然光刻機中的核心部件特別多,比如ASML的EUV光刻機,有10多萬個零件,光源之只是其中的一部分,但如果要攻克光刻機,光源是必不可少的部分,也是必須要攻克的部分,是核心中的核心。

所以華為哈勃投資入股科益虹源,很明顯,是為了加碼布局光刻機領域的研發,畢竟華為目前非常需要國產芯片制造技術能夠崛起。

所以爭取國產光刻機,早日能夠突破,追上甚至超過ASML的水平,那么國產芯片制造技術,就會有長足的進步。