12月24日，日本大型半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商東京電子宣布，將于2021年1月發(fā)售清洗機(jī)“CELLESTA SCD”，該產(chǎn)品帶干燥功能，可提高最尖端半導(dǎo)體的成品率。通過(guò)增加使用“超臨界流體”(基本沒(méi)有表面張力)的干燥工序，防止半導(dǎo)體上的微細(xì)結(jié)構(gòu)被破壞。這款清洗機(jī)將用于“微細(xì)化”和“多層化”的最尖端半導(dǎo)體制造，“微細(xì)化”是縮小電路線寬，“多層化”是在高度方向上層疊電路。
據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》網(wǎng)站12月18日?qǐng)?bào)道，新產(chǎn)品在東京電子的枚葉式清洗機(jī)CELLESTA系列中配備了超臨界干燥專(zhuān)用反應(yīng)室，將用于制造結(jié)構(gòu)不斷微細(xì)化、復(fù)雜化的邏輯半導(dǎo)體及個(gè)人電腦等使用的半導(dǎo)體存儲(chǔ)器DRAM。
報(bào)道稱(chēng)，通過(guò)使用超臨界流體，可以降低干燥時(shí)微細(xì)圖案結(jié)構(gòu)被液體表面張力破壞的風(fēng)險(xiǎn)。新產(chǎn)品在干燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。
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