據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道,韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪一家企業(yè),合理推測應(yīng)指代韓國整個半導(dǎo)體光刻產(chǎn)業(yè)。

韓國知識產(chǎn)權(quán)局(KIPO)發(fā)布的《過去10年(2011-2020年)專利申請報(bào)告》顯示,2014年,向韓國知識產(chǎn)權(quán)局(KIPO)提交的與EUV光刻相關(guān)的專利申請數(shù)量達(dá)到88件的峰值,2018年達(dá)到55件,2019年達(dá)到50件。

特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數(shù)量為40件,超過了國外企業(yè)的10件。這是韓國提交的專利申請首次超過國外。2020年,韓國提交的申請數(shù)量也是國外的兩倍多。

過去10年,包括三星電子在內(nèi)的全球企業(yè)進(jìn)行了密集的研發(fā),以確保技術(shù)領(lǐng)先地位。最近,代工公司開始使用5nm EUV光刻技術(shù)來生產(chǎn)智能手機(jī)的應(yīng)用處理器。

從公司來看,全球六大公司的專利申請數(shù)占了總數(shù)的59%,卡爾蔡司(德國)18%,三星電子(韓國)15%,ASML(荷蘭)11%,S&S Tech(韓國)8%,臺積電(中國臺灣)6%,SK海力士(韓國)1%。

從具體技術(shù)項(xiàng)目看,工藝技術(shù)申請專利占32%,曝光裝置技術(shù)申請專利占31%,掩膜技術(shù)申請專利占28%,其他申請專利占9%。在工藝技術(shù)領(lǐng)域,三星電子占39%,臺積電占15%。在光罩領(lǐng)域,S&S科技占28%,Hoya(日本)占15%,漢陽大學(xué)(韓國)占10%,朝日玻璃(日本)占10%,三星電子占9%。