2019年8月28日，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備領(lǐng)先供應(yīng)商EV集團(tuán)（EVG）今日宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的世界領(lǐng)先技術(shù)集團(tuán)肖特攜手合作，證明300－mm（12英寸）光刻／納米壓印（NIL）技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實／混合現(xiàn)實（AR／MR）頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)／光導(dǎo)制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。
此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTT RealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進(jìn)行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVG SmartNIL技術(shù)進(jìn)行圖案成形的300－mm SCHOTT RealView?玻璃晶圓。
300－mm和200－mm SCHOTT RealView?玻璃基板，裝配在應(yīng)用SmartNIL? UV－NIL技術(shù)的EVG? HERCULES? NIL系統(tǒng)
肖特增強(qiáng)現(xiàn)實負(fù)責(zé)人Ruediger Sprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴(kuò)展到300－mm，對于實現(xiàn)我們客戶滿足當(dāng)今和未來領(lǐng)先AR／MR設(shè)備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟(jì)產(chǎn)量來說至關(guān)重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當(dāng)今300－mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性。”
在此之前，使用光刻／納米壓印技術(shù)對具有光子學(xué)應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進(jìn)行圖案成形僅限于200－mm基板。向300－mm晶圓加工的遷移是將AR／MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進(jìn)的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開發(fā)和實驗，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過了現(xiàn)場驗證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴(kuò)展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES? NIL 300 mm，將SmartNIL引入300－mm制造，滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實（VR）頭戴顯示設(shè)備的光學(xué)器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學(xué)和等離子電子學(xué)。
集成到 SmartNIL? UV－NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG HERCULES NIL 300 mm
EV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開發(fā)和知識產(chǎn)權(quán)總監(jiān)Markus Wimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻／納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開發(fā)周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻／納米壓印技術(shù)解決方案的價值，不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開發(fā)，還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻／納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300－mm制造奠定了基礎(chǔ)。”
SCHOTT RealView?高折射率玻璃晶圓是領(lǐng)先AR／MR設(shè)備的關(guān)鍵組件，已經(jīng)實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達(dá)1．9的折射率，支持深度沉浸的AR／MR應(yīng)用，視野更廣，高達(dá)65度。在與增強(qiáng)現(xiàn)實硬件制造商進(jìn)行多年研發(fā)之后，肖特在2018年推出了第一代SCHOTT RealView?。這款高端產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽(yù)的2019年SID顯示行業(yè)獎（SID Display Industry Award 2019）。