據外媒報道，三星電子已經利用遠紫外線（EUV）設備完成了7納米芯片工藝的開發。最初，這家韓國半導體巨頭計劃在今年下半年完成這項技術，但最終它提前六個月實現目標。
相比10納米工藝，7納米工藝可以讓產品面積縮小40%。此外它還能將芯片性能提高10%，在性能相同時將能耗提高35%。這意味著，三星電子將能夠為移動設備、網絡設備、服務器和加密貨幣采礦業制造出更先進的半導體。
三星電子一名高管說：“7納米工藝讓移動設備廠商能夠在設備中安裝更大的電池，或者是采用更薄的設計。”
三星的這項新技術將在今年開始投入量產，目前該公司正準備向高通提供樣品，以利用新技術為后者大規模制造移動應用處理器。高通是三星7納米工藝的首家企業客戶。
三星也開始了5納米工藝的開發。在明年，該公司預計將完成這項技術，并在7納米產品于華城S3產線大規模量產的同時完成生產5納米產品的準備工作。然后，目前正在華城市建造的遠紫外線產線將開始在2020年生產基于7、6、5納米制程的產品。
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